HAMAMATSU 滨松 C11295 Multipoint NanoGauge
Multipoint NanoGauge 膜厚测量系统 C11295 是一种利用光谱干涉法的薄膜膜厚测量系统。作为半导体制造过程的一部分，它旨在测量薄膜厚度，以及用于对安装在半导体制造设备上的 APC 和薄膜进行质量控制。允许实时进行多通道测量，可在薄膜表面同时进行多通道测量和多点测量。同时，它还可以测量反射率（透射率）、物体色及其随时间的变化。
特点
可同时执行多达 15 个点的膜厚测定
无参考操作
通过校正光强度波动实现稳定的长期测量
警报和警告功能（通过/失败）
反射率（透射率）和光谱测量
高速度和高精度
实时测量
精确测量起伏不定的薄膜
分析光学常数（n、k）
提供外部控制
详细参数
| 型号 | C11295-XX*1 |
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| 可测量的薄膜厚度范围（玻璃） | 20 nm 至 100 μm*2 |
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| 测量重现性（玻璃） | 0.02 nm*3 *4 |
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| 测量精度（玻璃） | ±0.4%*4 *5 |
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| 光源 | 氙光源 *6 |
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| 测量波长 | 320 nm 至 1000 nm |
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| 光斑尺寸 | 约 φ1 mm*4 |
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| 工作距离 | 10 mm*4 |
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| 可测量层数 | 最多 10 层 |
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| 分析 | FFT 分析、拟合分析 |
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| 测量时间 | 19 ms/point*7 |
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| 光纤连接器形状 | SMA |
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| 测量点数 | 2 至 15 |
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| 外部控制功能 | 以太网 |
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| 接口 | USB 2.0（主机 - 计算机）
RS-232C（光源 - 计算机） |
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| 电源 | AC100 V 至 AC240 V，50 Hz/60 Hz |
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| 功耗 | 2 通道时：大约 350 VA，15 通道时：约 500 VA |
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*1：-XX 表示测量点的数量。
*2：当以玻璃折射率 1.5 进行转换时。
*3：测量 400 nm 厚玻璃膜时的标准偏差（容差）。
*4：取决于使用的光学系统或物镜放大率。
*5：VLSI 标准测量保证文件中记录的测量保证范围。
*6：卤素光源型号为 C11295-XXH。
*7：最短曝光时间。
尺寸
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